Los caminos de Intel y TSMC hacia los 2 nm están a punto de separarse. El motivo: el equipo de litografía High-NA de ASML
Empresas y economíaEl equipo de litografía UVE de alta apertura de ASML es un prodigio de la tecnología. Esta sofisticada y complejísima máquina ha sido diseñada por esta compañía neerlandesa para derribar la barrera de los 3 nm.
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