Laura López
Editora Sénior - TechLa litografía de ultravioleta extremo (UVE) es el cuello de botella más estrecho de toda la industria de los semiconductores. Solo una compañía en el mundo, la neerlandesa ASML, fabrica estas máquinas, imprescindibles para producir circuitos integrados por debajo de los 7 nm, y desde 2019 tiene prohibido vender sus modelos más avanzados a China por presión de EEUU. Cada equipo cuesta entre 200 y 400 millones de dólares, y hasta ahora ni un solo cliente chino ha logrado hacerse con uno.
Un equipo de la Academia China de Ciencias, con sede en el Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái, ha construido la primera plataforma china de fuente de luz UVE por láser-plasma. Al frente está Lin Nan, excientífico de ASML y responsable técnico de sus fuentes de luz para metrología, que regresó a China en 2021 dentro de un programa estatal de atracción de talento. Su equipo ha optado por una vía que esquiva deliberadamente el método de ASML, así como más de 2.000 de sus patentes.
Qiu Yanfang, columnista china especializada en semiconductores, lo ha resumido sin ambigüedad: este rodeo de patentes no es solo una maniobra legal; es ingeniería genuina. Y es esta valoración, publicada hace apenas dos semanas, la que ha vuelto a poner el foco sobre hasta dónde ha llegado realmente China en su carrera por la independencia tecnológica en litografía.
El camino más largo hasta la producción en masa
El truco técnico consiste en lo siguiente: mientras ASML genera luz UVE disparando potentes láseres de dióxido de carbono contra gotas de estaño en movimiento (un método conocido como LPP), el equipo de Lin Nan utiliza un láser de estado sólido de 1 micra que golpea un blanco de estaño sólido. En un artículo publicado en diciembre de 2024, Lin y su equipo ya defendían que este tipo de láseres podía sustituir a los de dióxido de carbono como fuente de próxima generación gracias a su tamaño compacto y su mayor eficiencia de conversión.
No obstante, la propia Qiu Yanfang matiza su entusiasmo inicial. A corto plazo, sostiene, esta fuente de estado sólido no puede sacudir el dominio de ASML, ya que toda la industria global de los semiconductores ha construido sus cadenas de suministro, sus patentes y su experiencia de ingeniería alrededor del láser de dióxido de carbono. Aunque la tecnología china logre resultados en el laboratorio, todavía le queda un largo trecho hasta alcanzar la producción a gran escala. El valor real del logro de Lin, en cualquier caso, reside en sentar las bases y forjar un equipo de investigación que cubra desde la teoría hasta la ingeniería aplicada.
El Gobierno chino aspira a producir chips con esta tecnología en 2028, aunque buena parte de los analistas considera 2030 una fecha más realista
Este esfuerzo convive, además, con otra vía paralela y mucho más hermética. Según reveló Reuters en diciembre de 2025, China ha montado un prototipo de máquina UVE operativo dentro de un laboratorio de alta seguridad en Shenzhen, aunque todavía no fabrica circuitos integrados funcionales.
Huawei coordina esta iniciativa, que involucra a miles de ingenieros: el Instituto de Tecnología de Harbin se encarga de la fuente de luz, el Instituto de Óptica de Changchún de los sistemas ópticos, y SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) de la integración final, con SiCarrier (la empresa china respaldada por el Gobierno de Shenzhen y vinculada a Huawei) como otro de los actores clave. El Gobierno chino aspira a producir chips con esta tecnología en 2028, aunque buena parte de los analistas considera 2030 una fecha más realista.
Por ahora ningún prototipo chino ha demostrado ser capaz de fabricar circuitos integrados comerciales con litografía UVE propia, y las dudas sobre la velocidad real de este avance han vuelto a la primera línea informativa por otro motivo muy distinto. El secretario de Comercio de EEUU, Howard Lutnick, ha planteado a directivos sénior de ASML la posibilidad de que uno de sus equipos UVE haya llegado a China por canales clandestinos, algo que la compañía neerlandesa ha negado de forma rotunda: ninguna de sus 314 máquinas UVE operativas en el mundo, ni ninguna de las 26 ya retiradas, se encuentra en territorio chino.
China no tiene todavía su máquina UVE. Pero, gracias a Lin Nan, ya tiene algo que hasta hace poco tampoco tenía: un camino propio para intentar construirla.
Imagen | ASML
Más información | Asia Times
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